真空溅镀双面镀铜设备
发布时间:2023-05-13 15:53:11 人气:163
真空溅镀双面镀铜设备


设备规格参数

磁控溅镀阴极

1750*ID125*OD151 mm

磁控阴极磁场

500~700G

电源供应器

德国J.Schneider DC PULES  20KW

气体质料控制器

控制范围0~1000Sccm

控制精度±2%



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